电子信息产业的快速发展为电子气体等材料带来了广阔的市场空间，我国对其研发与产业化也给予了重点关注。在国家工业和信息化部发布的2008年度国家电子信息产业发展基金项目中，在国际上居于领先地位的718所派瑞科技园三氟化氮特种气体项目获得该基金支持。

  高纯三氟化氮是一种微电子工业中使用的特种气体，可以在集成电路板上“蚀刻”出只有几十纳米的线槽，使电子产品的核心部件越做越小，可让手机、电脑、MP3等各种数码产品变得小巧玲珑。同时，它还可以作为清洗气。在生产液晶显示器的时候，由于周围环境中会有一些杂质，这些杂质用常规办法很难清理干净，这时候三氟化氮可以大显身手，为液晶显示器的生产创造近乎零污染的环境。此外，由于高纯三氟化氮对地球臭氧层危害极小，因此它被很多国家和地区用来替代《蒙特利尔议定书》和《京都议定书》中所列的六氟化硫（SF6）、六氟乙烷（C2F6）、四氟化碳（CF4）等温室气体。

  随着微电子行业的发展，世界各国对高纯度三氟化氮气体的需求将越来越大。据预测，今后十年间，半导体、芯片行业对三氟化氮的需求量将以每年25％的速度递增，同时对三氟化氮纯度的要求也越来越高，这意味着该产品未来将有更广阔的发展空间。

  飞源科技生产的三氟化氮气体纯度已经达到99.995%。与美国、日本的三氟化氮气体生产技术相比，飞源科技的三氟化氮技术在安全性、经济性上更胜一筹，高纯三氟化氮气体生产已形成产业规模，年生产能力达1000吨，产品远销美国、日本等国家和地区。